IR公司在IGBT基礎上推出兩款結合FRD（快速恢復二極管）的新型器件，IGBT/FRD有效結合，將轉換狀態(tài)的損耗20%，采用TO—247外型封裝，額定規(guī)格為1200V、25、50、75、100A，用于電機驅動和功率轉換，以IGBT及FRD為基礎的新技術便于器件并聯，在多芯片模塊中實現更均勻的溫度，進步整體可靠性。新疆FZ1200R33KL2C B5,圖片大量現貨新疆FZ1200R33KL2C B5,圖片大量現貨新疆FZ1200R33KL2C B5,圖片大量現貨FZ1200R33KL2C B5FZ1200R33KL2C B5FZ1200R33KL2C B5IGBT是將強電流、高壓應用和快速終端設備用垂直功率MOSFET的自然進化。由于實現一個較高的擊穿電壓BVDSS需要一個源漏通道，而這個通道卻具有很高的電阻率，因而造成功率MOSFET具有RDS(on)數值高的特征，IGBT了現有功率MOSFET的這些主要缺點。雖然新一代功率MOSFET 器件大幅度改進了RDS(on)特性，但是在高電平時，功率導通損耗仍然要比IGBT 技術高出很多。較低的壓降，轉換成一個低VCE(sat)的能力，以及IGBT的結構，同一個雙極器件相比，可支持更高電流密度，并簡化IGBT驅動器的原理圖輸出特性與轉移特性：IGBT是Insulated Gate Bipolar Transistor(絕緣柵雙極型晶體管)的縮寫，IGBT是由MOSFET和雙極型晶體管復合而成的一種器件，其輸入極為MOSFET，輸出極為PNP晶體管，它融合了這兩種器件的優(yōu)點，既具有MOSFET器件驅動功率小和開關速度快的優(yōu)點，又具有雙極型器件飽和壓而容量大的優(yōu)點，其特性介于MOSFET與功率晶體管之間，可正常工作于幾十kHz范圍內，在現代電力電子技術中了越來越廣泛的應用，在較高的大、率應用中占據了主導地位。U（溝槽結構）--IGBT是在管芯上刻槽，芯片元胞內部形成溝槽式柵極。采用溝道結構后，可進一步縮小元胞尺寸，溝道電阻，進步電流密度，制造相同額定電流而芯片尺寸少的產品?，F有多家公司生產各種U—IGBT產品，適用低電壓驅動、表面貼裝的要求。新疆FZ1200R33KL2C B5,圖片大量現貨新疆FZ1200R33KL2C B5,圖片大量現貨新疆FZ1200R33KL2C B5,圖片大量現貨缺點：擊穿電壓低，工作電流小。模塊簡介FZ1200R33KL2C B5